VELDHOVEN/MÃœNCHEN -Â Zij zijn genomineerd voor hun rol bij de ontwikkeling van microchip-fabricage en specifiek de Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL). EUVL etst met hoogenergetische lasers details op nanoschaal in silicium-wafers voor de productie van microchips.
De techniek bespaart chipmakers tijd en geld in de productie van de volgende generaties microchips die innovaties op het gebied van consumentenelektronica, gezondheid, entertainment, zelfrijdende auto’s, robotica en kunstmatige intelligentie mogelijk moeten maken.
De European Inventor Awards van het Europees Octrooibureau worden 7 juni bekendgemaakt
Opnieuw zetten Nederlandse uitvinders de succesreeks voort als finalist van de jaarlijkse European Inventor Awards. De prestigieuze innovatieprijzen van het Europees Octrooibureau (EOB) omvatten vijf categorieën en in totaal 15 finalisten. Erik Loopstra en Vadim Banine zijn genomineerd in de categorie ‘Industrie’ voor hun onderscheidende bijdrage aan de ontwikkeling van technologie waarmee de volgende generatie microchips op industriële schaal kan worden geproduceerd. Op 7 juni worden tijdens een ceremonie in Parijs, Saint-Germain-en-Laye de winnaars per categorie bekendgemaakt.
Microchips zijn overal, we maken er op elk moment van de dag en nacht gebruik van met onze computers, smartphones en apparaten. Microchips moeten ook steeds meer kunnen; om de twee jaar verdubbelt de capaciteit – gemeten in termen van de dichtheid van de transistors op één microchip. Geïntegreerde schakelingen zijn gegroeid van duizenden transistors in de jaren zeventig, naar miljarden schakelingen op hetzelfde oppervlak. Een van de belangrijkste aanjagers van deze ontwikkeling is fotolithografie, dat laserlicht gebruikt om geometrische structuren op siliciumschijven te ‘etsen’. De technische en economische grenzen van de bestaande fabricagetechniek zijn echter ongeveer bereikt. De fysicus Vadim Banine en systeemengineer Erik Loopstra werken samen met hun onderzoeks- en engineeringteams al twee decennia bij ASML, ’s werelds grootste producent van lithografiesystemen, aan de volgende generatie microchips.
De ontwikkeling van Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) technologie betekent een grote stap voorwaarts. EUVL print met hoogenergetische lasers details op nanoschaal in silicium-wafers voor de productie van microchips. De techniek van lithografie met extreem ultraviolet licht is in 2017 op de markt gekomen. In productielijnen zal dit gepatenteerde, state-of-the-art EUV-lithografiesysteem worden gebruikt voor de meest gedetailleerde en nauwkeurige lagen van een chip. De techniek belooft chipmakers tijd en geld te besparen in de productie van de volgende generaties van chips die innovaties op het gebied van consumentenelektronica, gezondheid, entertainment, zelfrijdende auto’s, robotica en kunstmatige intelligentie mogelijk moeten maken.
Erik Loopstra
Is al meer dan 25 jaar systeemengineer bij ASML en studeerde werktuigbouwkunde aan de Technische Universiteit Delft. Momenteel werkt Loopstra aan de volgende generatie optische systemen voor EUVL bij ASML-leverancier ZEISS in Duitsland.
Vadim Banine
De natuurkundige Vadim Banine deed twee jaar postdoctoraal onderzoek aan de Technische Universiteit Eindhoven (TU/e), waar hij ook promoveerde. In 1996 ging hij bij ASML werken. Sindsdien past hij zijn wetenschappelijke inzichten toe op het realiseren van technologische doorbraken in EUVL.
Patenthouder ASML is ‘s werelds grootste producent van lithografiesystemen met een geschat marktaandeel van 85 procent over het afgelopen jaar in termen van inkomsten. In 2017 bood het beursgenoteerde ASML werkgelegenheid aan zo’n 19.200 mensen wereldwijd, waarvan er alleen al meer dan 4000 werkten aan de EUVL-technologie.